Presseinformation

Startschuss für Forschungsfabrik Mikroelektronik Deutschland am Fraunhofer FHR

Am 06. Juni 2017 hat der Parlamentarische Staatssekretär Thomas Rachel MdB am Fraunhofer-Institut für Hochfrequenzphysik und Radartechnik FHR den Startschuss für die „Forschungsfabrik Mikroelektronik Deutschland“ in Wachtberg gegeben. Mit der Fördersumme von 9,3 Millionen Euro aus dem Investitionsprogramm des Bundesministeriums für Bildung und Forschung (BMBF) baut das Fraunhofer FHR unter anderem modernste OnWafer- und Antennenmesstechnik sowie eine 3D-Fertigung für Rapid Prototyping auf. Mit diesem neuen Programm will das BMBF die landesweiten Forschungskapazitäten in der Mikroelektronik vernetzen und erweitern und so die deutsche Halbleiter- und Elektronikindustrie international stärken.

Übergabe der Bewilligungsurkunde "Forschungsfabrik Mikroelektronik Deutschland" über 9,3 Mio. Euro an die Institutsleiter Dr. Knott (l.) und Prof. Heberling (2.v.r.) durch Staatssekretär Thomas Rachel und Dr. Norbert Röttgen MdB
© Fraunhofer FHR / Vollrath
Übergabe der Bewilligungsurkunde "Forschungsfabrik Mikroelektronik Deutschland" über 9,3 Mio. Euro an die Institutsleiter Dr. Knott (l.) und Prof. Heberling (2.v.r.) durch Staatssekretär Thomas Rachel und Dr. Norbert Röttgen MdB
Dirk Nüßler, Abteilungsleiter im Fraunhofer FHR, erläutert Staatssekretär Thomas Rachel und Dr. Norbert Röttgen MdB die geplanten Investitionen in die OnWafer-Messtechnik.
Dirk Nüßler, Abteilungsleiter im Fraunhofer FHR, erläutert Staatssekretär Thomas Rachel und Dr. Norbert Röttgen MdB die geplanten Investitionen in die OnWafer-Messtechnik.
Ein Beispiel für Mikroelektronik vom Fraunhofer FHR: Ein Hochfrequenzmodul zur Signalverteilung und -verstärkung bei 30 GHz.
© Fraunhofer FHR / Bellhäuser
Ein Beispiel für Mikroelektronik vom Fraunhofer FHR: Ein Hochfrequenzmodul zur Signalverteilung und -verstärkung bei 30 GHz.

Mikro- und Nanoelektronik stellen im Zeitalter der Digitalisierung entscheidende Wachstumsfaktoren dar. Deshalb fördert das Bundesministerium für Bildung und Forschung jetzt den Aufbau einer standortübergreifenden „Forschungsfabrik Mikroelektronik Deutschland“ (FMD). So soll eine neue Qualität der Elektronikforschung am Standort Deutschland entstehen, um Forschungsdienstleistungen entlang der kompletten Innovationskette aus einer Hand anzubieten.

Mit rund 350 Millionen Euro – dem größten Investitionsprogramm für die Mikroelektronik-Forschung in Deutschland seit der Wiedervereinigung – fördert das BMBF mit FMD 13 außeruniversitäre Forschungseinrichtungen. Elf Institute der Fraunhofer-Gesellschaft werden mit 280 Millionen Euro gefördert, zwei Institute der Leibniz-Gesellschaft erhalten 70 Millionen Euro Förderung.

„Mit der Forschungsfabrik Mikroelektronik Deutschland stärken wir eine Schlüsselindustrie, die für Hightech-Wachstum und damit Hightech-Arbeitsplätze in Deutschland sorgt“, sagte Thomas Rachel MdB, Parlamentarischer Staatssekretär im BMBF. „Das Fraunhofer FHR in Wachtberg wird mit seinen neuen Geräten kleinen, mittleren und großen Unternehmen neue Innovationen aus der Hochfrequenztechnologie anbieten können. Gleichzeitig bietet es dem wissenschaftlichen Nachwuchs an den Hochschulen in der Region ganz neue Möglichkeiten." Thomas Rachel überbrachte die Zusage über 9,3 Millionen Euro an Fördermitteln der Bundesregierung für die kommenden drei Jahre heute persönlich.

Das Fraunhofer FHR ist eines von zwei Instituten, die in Nordrhein-Westfalen als Teil der neuen Forschungsfabrik gefördert werden. „Wir sind stolz, Teil dieses einzigartigen Mikroelektroniknetzwerks in Deutschland zu sein. Die Förderung ermöglicht uns Investitionen in modernste Ausstattung. Dadurch können wir zusätzliche Kompetenzen und Ressourcen für exzellente, innovative Forschung schaffen und unser Institut in Wachtberg festigt seine Position als attraktiver Partner für die Wirtschaft in der Region, in Nordrhein-Westfalen und in ganz Deutschland.“, so Institutsleiter Dr. Peter Knott.

Am Fraunhofer FHR entstehen Labore für die Herstellung von hochintegrierten und damit kompakten Radarsystemen. Diese basieren u.a. auf Silizium-Germanium-Chips und arbeiten bei Frequenzen bis zu 300 GHz. An den neu entstehenden Messplätzen können die Chips geprüft und in entsprechende Schaltungen integriert werden. Zur Vermessung und Qualifizierung fertiger Systeme und Antennen baut das Institut zwei moderne Messkammern nach IEEE-Norm, welche den Frequenzbereich von 100 MHz bis 1,1 THz abdecken werden.

Das Fraunhofer-Institut für Hochfrequenzphysik und Radartechnik FHR betreibt als eines der führenden europäischen Institute umfassende Forschung im Bereich Hochfrequenz- und Radartechnik. Kernthema der Forschungsarbeiten sind Sensoren für hochpräzise Abstands- oder Positionsbestimmung sowie bildgebende Systeme. Das Anwendungsspektrum dieser Geräte reicht von Systemen für Aufklärung, Überwachung und Schutz von kritischer Infrastruktur bis hin zu echtzeitfähigen Sensoren für Verkehr und Navigation sowie Qualitätssicherung und zerstörungsfreies Prüfen. Seine Expertise stellt das Fraunhofer FHR seinen Partnern in den sechs Geschäftsfeldern Verteidigung, Weltraum, Verkehr, Umwelt, Sicherheit und Produktion zur Verfügung.

Mit den Investitionen in die Forschungsfabrik Mikroelektronik Deutschland sowie die Hochschulen (ab 2018) und dem Rahmenprogramm "Mikroelektronik aus Deutschland – Innovationstreiber der Digitalisierung" unterstützt das BMBF Forschung und Innovation in der Mikroelektronik mit insgesamt rund 800 Millionen Euro bis 2020. Dies ist Teil eines Maßnahmenpaketes zur Förderung der Mikroelektronik in Deutschland, das die Bundesregierung auf den Weg gebracht hat und zu dem auch eine Investitionsförderung für Mikroelektronikunternehmen gehört. Die Mikroelektronik ist eine Schlüsseltechnologie für strategisch bedeutsame, starke Industriebranchen wie den Maschinen- und Automobilbau. Moderne Mikroelektronik ist Voraussetzung für Industrie 4.0, intelligente Mobilität und effiziente Technik für die Energiewende.